EUV Lithography 2023 se llevará a cabo en Monterey, California, del 01 al 05 de octubre.
Wooptix, referente en metrología de semiconductores mediante imágenes de fase de frente de onda, ha anunciado que este año presentará un artículo científico en EUV Lithography 2023, California. El paper se presentará bajo el título “Nueva técnica para medir la superficie de la oblea de forma libre para correcciones de superposición anticipada” y explicará la conveniencia de utilizar una medición alternativa a la distorsión de la oblea.
Según el resumen del artículo: “La superposición de producto (OPO) es uno de los parámetros más críticos para el escalado continuo según la ley de Moore1. Además del escáner litográfico, también los procesos no litográficos contribuyen al rendimiento de OPO. Por ejemplo, procesos como el grabado y la deposición de películas transparentes pueden introducir tensión o cambios de tensión en las películas finas sobre las obleas de silicio”.
“En general, el modelo de alineación de obleas de orden superior del escáner hasta el tercer orden (HOWA3) ha demostrado ser adecuado para corregir la mayoría de las distorsiones de las obleas inducidas por los procesos. Este modelo se utiliza normalmente con 28 marcas de alineación de la oblea colocadas a lo largo de la misma para corregir las distorsiones de la oblea inducidas por el proceso debido al estrés. Es evidente que, si la variación de la tensión se manifiesta en escalas de longitud más cortas, se necesitan más marcas de alineación en combinación con un modelo de alineación de la oblea más sofisticado o una medición alternativa de la distorsión de la oblea”.
La presentación estará a cargo de Jan O. Gaudestad, VP of Business Development de Wooptix. Como dice el sitio web, “Jan Olaf tiene más de 20 años de experiencia en la industria de los semiconductores.
Trabajó en cuentas estratégicas en InvenSense/TDK para sensores de movimiento a nivel de consumidor. Pasó 14 años en Neocera, una empresa de equipos semiconductores backend financiada por Intel Capital que gestiona el desarrollo de productos, ventas globales, aplicaciones y desarrollo de nuevos negocios”.
Los autores de los artículos en la empresa holandesa son: Richard van Haren, Leon van Dijk y Ronald Otten. En Wooptix, los autores de los artículos son: Kiril I. Kurteva, Juan M. Trujillo-Sevilla, Guillermo Castro Luis y Jan O. Gaudestad.
El programa de EUV Lithography 2023 se llevará a cabo en Monterey, California, del 01 al 05 de octubre en el Monterey Convention Center.
El Paper de Wooptix se presentarán el 03 de octubre de 2023 de 11:45 a 12:00 horas.
El objetivo de este evento SPIE es centrarse en los avances y desafíos globales dentro de la tecnología de EUVL. “Esta conferencia es donde investigadores y científicos se reúnen para compartir los últimos avances a lo largo de dos conferencias”, explica la página web de SPIE.
En EUV Lithography 2023 son muchas las conferencias interesantes:
Preparación e inserción de EUV en la fabricación.
Herramientas EUV, incluidas fuentes y ópticas.
Metrología, inspección y vida útil de la máscara EUV.
Máscara EUV e imágenes.
Películas de máscara EUV.
Materiales/procesos resistentes a EUV y contaminación.
Control de procesos EUV y estocástica.
Patrones EUV y mejora de procesos.
Extensibilidad de la litografía EUV.
Wooptix es líder en metrología de semiconductores a través de imágenes de fase de frente de onda, una técnica derivada de la investigación de óptica adaptativa en astronomía.
La compañía ha desarrollado Phemet®, una herramienta de medición de obleas de silicio, que es la versión previa a la siguiente herramienta de fabricación totalmente automatizada, que se espera para 2024.
Wooptix fue fundada en 2016 como Spin Off de la Universidad de la Laguna. En la actualidad tiene sede en Tenerife, Madrid y San Francisco.
